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东芝电子元件及存储装置株式会社面向智能手机
发布时间:2018-02-01 人气:0次 编辑:未知
东京-- 东芝电子元件及存储装置株式会社今日宣布研发出新一代 TarfSOITM(东芝先进的 RF SOI[1])工艺——“TaRF10”,该工艺经优化适用于智能手机应用中的低噪声放大器(LNA)。
近年来,移动数据通信的快速发展使得射频开关和滤波器在移动设备模拟前端中得到了广泛应用。从而导致天线与接收器电路之间的信号损耗增加,使得接收器灵敏度下降,而低噪声系数[2] (NF) 的 LNA 成为补偿信号损耗和提高接收信号完整性的关键。
东芝电子元件及存储装置株式会社已利用其全新的 TaRF10 工艺成功研发出 LNA 原型机,该原型机可在 1.8GHz 频率下实现 0.72dB 的卓越噪声系数和 16.9dB 的增益[3]。
移动设备在接收器电路中使用大量射频开关和 LNA,因此需减少电路尺寸来减少对基板面积的占用。目前,LNA 通常使用硅锗碳(SiGe:C)双极晶体管,这使得在同一芯片上集成采用不同工艺制造的 LNA 和射频开关非常困难。
由于 TaRF10 新工艺与制造射频开关的TaRF8和TaRF9工艺高度兼容,可确保卓越的射频特性,因此可在单一芯片上实现 LNA、控制电路和射频开关的集成。与 TaRF8 相比,TaRF9 实现了更低的插入损耗和信号失真。如今,东芝电子元件及存储装置株式会社计划将搭载集成射频开关的 LNA 投放市场。
东芝电子元件及存储装置株式会社依托旗下子公司 Japan Semiconductor Corporation 采用最新的 SOI-CMOS 技术成功研发出射频 IC,公司有能力实施从射频工艺技术研发到设计和制造的全部生产流程,可确保产品快速上市。
该公司将继续利用尖端技术进一步改进 TarfSOITM 工艺特性并研发射频 IC,以满足下一代 5G 智能手机的市场需求。
Fig.1. Appearance of LNA fabricated with TaRF10
Fig.2. Functional block diagram of LNA
表1.LNA的主要规格
style="width: 510px; height: 388px;" />
注:
[1] TarfSOI™ (东芝先进的RF SOI):东芝独一无二的绝缘硅互补金属氧化物半导体 (SOI-CMOS) 前端工艺
[2] 噪声系数:输出端信噪比和输入端信噪比的比值。噪声系数越低,放大器自身噪声则越低,因此噪声系数越低越好。
[3] 增益:放大器输出功率与输入功率的比值,用dB表示
* 本文提及的公司名称、产品名称和服务名称均为其各自公司的商标。
客户问询:
日本总部
小信号器件销售&市场部门
电话:+81-03-3457-3411
https://toshiba.semicon-storage.com/ap-en/contact.html
中国地区
分立器件市场部(Discrete Marketing)
上海:021-6139-3888 / 深圳:0755-2399-6897
https://toshiba.semicon-storage.com/cn/contact.html
近年来,移动数据通信的快速发展使得射频开关和滤波器在移动设备模拟前端中得到了广泛应用。从而导致天线与接收器电路之间的信号损耗增加,使得接收器灵敏度下降,而低噪声系数[2] (NF) 的 LNA 成为补偿信号损耗和提高接收信号完整性的关键。
东芝电子元件及存储装置株式会社已利用其全新的 TaRF10 工艺成功研发出 LNA 原型机,该原型机可在 1.8GHz 频率下实现 0.72dB 的卓越噪声系数和 16.9dB 的增益[3]。
移动设备在接收器电路中使用大量射频开关和 LNA,因此需减少电路尺寸来减少对基板面积的占用。目前,LNA 通常使用硅锗碳(SiGe:C)双极晶体管,这使得在同一芯片上集成采用不同工艺制造的 LNA 和射频开关非常困难。
由于 TaRF10 新工艺与制造射频开关的TaRF8和TaRF9工艺高度兼容,可确保卓越的射频特性,因此可在单一芯片上实现 LNA、控制电路和射频开关的集成。与 TaRF8 相比,TaRF9 实现了更低的插入损耗和信号失真。如今,东芝电子元件及存储装置株式会社计划将搭载集成射频开关的 LNA 投放市场。
东芝电子元件及存储装置株式会社依托旗下子公司 Japan Semiconductor Corporation 采用最新的 SOI-CMOS 技术成功研发出射频 IC,公司有能力实施从射频工艺技术研发到设计和制造的全部生产流程,可确保产品快速上市。
该公司将继续利用尖端技术进一步改进 TarfSOITM 工艺特性并研发射频 IC,以满足下一代 5G 智能手机的市场需求。
Fig.1. Appearance of LNA fabricated with TaRF10
Fig.2. Functional block diagram of LNA
表1.LNA的主要规格
style="width: 510px; height: 388px;" />
注:
[1] TarfSOI™ (东芝先进的RF SOI):东芝独一无二的绝缘硅互补金属氧化物半导体 (SOI-CMOS) 前端工艺
[2] 噪声系数:输出端信噪比和输入端信噪比的比值。噪声系数越低,放大器自身噪声则越低,因此噪声系数越低越好。
[3] 增益:放大器输出功率与输入功率的比值,用dB表示
* 本文提及的公司名称、产品名称和服务名称均为其各自公司的商标。
客户问询:
日本总部
小信号器件销售&市场部门
电话:+81-03-3457-3411
https://toshiba.semicon-storage.com/ap-en/contact.html
中国地区
分立器件市场部(Discrete Marketing)
上海:021-6139-3888 / 深圳:0755-2399-6897
https://toshiba.semicon-storage.com/cn/contact.html
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